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高温超导薄膜基片

掺钇氧化锆(YSZ)

文字:[大][中][小] 2016-7-19    浏览次数:436    


产品名称:掺钇氧化锆(YSZ)
常规晶向:<100>,<110>,<111>
原料产地: 国产
常规尺寸: Dia2
常规厚度: 0.5mm,1mm
产品包装: 单片超净封装
发货周期: 2周
接受订制: 接受订制
浏览次数: 748
关键字:
掺钇氧化锆,YSZ,超导基片


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简要说明:


氧化锆(ZrO2)单晶基片是最早被开发应用 的高温超导基片之一。由于ZrO2单晶需掺入钇(Y)以稳定其结构, 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好,价格较低,特别适于用在试验性薄膜制备工作中。氧化锆也是制作双晶基片 (用于高温超导结构技术)的良好材料。




主要性能参数

晶体结构

立方

生长方法

弧熔法

晶格常数

a=5.147

熔点(℃)

2700

密度

6.0cm3

硬度

8-8.5(mohs)

纯度

99.99%

热膨胀系数(/℃)

10.3×10-6

介电常数

ε=27

尺寸

10×3m、10×5m、10×10mm、15×15mm、20×15mm

可按照客户需求,定制特殊方向和尺寸的基片

厚度

0.5mm、1.0mm

尺寸公差

<±0.1mm

厚度公差

<±0.015mm特殊要求可达到<±0.005mm)

抛光

单面或双面

晶面定向精度

±0.5°

边缘定向精度

2°(特殊要求可达到1°以内)

取向

<100>、<110>、<111>等

斜切晶片

可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角(1°~45°)的晶片

包装

100级洁净袋,1000级超净室



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