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高温超导薄膜基片

镓酸钕NdGaO3

文字:[大][中][小] 2017-8-23    浏览次数:264    

镓酸钕(NdGaO3)

 

NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小(~0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。

 

主要性能参数

晶体结构

正交

晶胞参数Å

a=5.43b=5.50c=7.71

熔点

1600

密度

7.57g/cm3

介电常数

25

生长方法

提拉法

尺寸

10x310x510x1015x15,,20x1520x20

厚度

0.5mm1.0mm

抛光

单面或双面

晶向

100  110  111

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

(特殊要求可达以内)

斜切晶片

可按特定需求,加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜(倾斜角45°)的晶片

Ra:

≤5Å5µm×5µm

 

 

包装

100级洁净袋,1000级超净室

 

 

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