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薄膜衬底

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砷化镓(GaAs)

薄膜衬底

主要性能参数

 

晶体
结构
晶向
熔点
oC
密度
g/cm3
禁带宽度
GaAs
立方
a=5.653 A
<100>
1238
5.31
1.424

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

单晶

掺杂

导电类型

载流子浓度cm-3

位错密度cm-2

生长方法

标准基片(mm

GaAs

Si

undoped

N

>5×1017

<5×105

VGF

VB

Dia2″×0.35mm

Dia3"x0.35mm

Dia100×0.65mm

晶向

(100) 0°±0.5°,<111>

(100) 2°±0.5°off toward <111>A

(100)15°±0.5°off toward <111>A

尺寸(mm)

25×25×0.35mm、10×10×0.35mm、10×5×0.35mm、5×5×0.35mm

可按照客户需求,定制特殊方向和尺寸的衬底

表面粗糙度

Surface roughness(Ra):<=5A
可提供原子粒显微镜(AFM)检测报告

抛光

单面或双面

包装

100级洁净袋,1000级超净室